调整；
据汇报，有望在下月进行65纳米制程试生产。”
似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句：“DUV浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻；
根据晶圆试验线的负责教授解释：
传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。
又根据一个瑞利公式：CD=K1×（λ/NA），降低波长λ，提高镜头的数值孔径NA，降低综合因素K1，即可不断演进光刻制程。
DUV激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长；
不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，再做到半周期65nm；
总之……
晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻，之后可能会漫长一点，但也不会是太久远的事情。”
一口气照本宣科的说完，温叶并未多停顿，继续解释。
“虽然梼杌实验室牵头的EUV光刻研发进展十分缓慢，但因为从欧美国家收购的各类技术等等；
对DUV光刻机的研发推动工作很有帮助。”
“……”
最后，温叶总结：“截止目前，就是这些项目有确切成果。”
“小谷负责的胜遇4G组网方案实际实验，还需要一点点时间，应该是在四月底能完成。”
听温叶完全说完后，方年稍作沉吟：“也就是说，梼杌一点都不重视的DUV光刻进展神速，去年最后一个季度投入了70亿，今年第一季度又投入十数亿的EUV进展龟速？”
“也可以这么理解。”温叶无奈回答，“国内无论是梼杌还是协调的那些单位，在EUV方面的积累可以称之为0。”
方年咂咂嘴：“还真是有点意外。”
接着方年看了眼温叶，话锋一转：“不过温秘，你连个照本宣科都整不明白？
实验室那台DUV光刻机要硬上的话，现在就可以生产65纳米，只是在没调整镜头等硬件的情况下，良率会爆炸，无非是多重光照罢了。”
温叶：“……”
她忍不住腹诽：以为谁都跟你个大(B)佬(T)一样，什么都懂？
方年也没想要温叶回答，自顾自问了下去：“神龙511的失败有更具体的汇
…。。