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第233章 哈工大出钱,支持清华光刻机!

作品:重回1980,我考上了哈工大作者:开心薯片
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现在,国内哪个大学不知道秦淼的大名?尤其是名牌大学,大家伙都在感慨,这样的优秀人才,怎么没有进入自己的大学?哪怕清华大学,也希望能招收秦淼这样的学生,带着整个大学一起飞啊!

甚至,在回来的路上,沈校长还在想,如果秦淼是清华大学的,这光刻机还发愁销路吗?没想到,秦淼居然亲自过来了!

倪工站在秦淼的旁边,有些微微的尴尬。

怎么回事?

秦淼说,他没来过清华大学,不认识这里的师生,怕被打出来,所以让他来给介绍介绍,现在看来,这完全没必要啊!

校长,老师……居然听秦淼的声音,就知道他来了!

秦淼也有些感慨,自己的名声,这么快就传开了啊!不过……来得正是时候,国内那些目光短浅的蠢货们,外商一次出国游的机会,就把他们给收买了?尸位素餐,统统该枪毙!

“来,秦淼同志,您进来,需要我给您介绍一下产品吗?”

“好啊。”秦淼点头。

“目前,我们研制的最先进的产品,是自动对准分步投影光刻机,随着制程的不断提升,硅圆直径的扩大,这种光刻机已经是必然的选择了……”

光刻机,其实和照相差不多,最早的时候,是直接接触方式的,用紫外光源照射,就是把掩膜上的图案转移到硅片上,就相当于把电路在上面留下了印子,后续还需要刻蚀等等程序。

直接接触会导致硅片的污染和磨损,工艺精度不高,后来就出现了间接式,在掩膜和硅片之间增加一层间隙空气,避免了接触式光刻机的问题,但是掩膜和硅片,依旧是同样尺寸的。

随着技术的提升,硅片的制程越来越先进,掩膜已经刻不出来那么细了,这个时候,光刻机就需要加透镜,把一个大面积的掩膜图案,刻到一个小小的芯片上去,微米级的工艺,这种技术几乎是必须的。

一个掩膜只能造一个芯片,在硅圆上刻下一小块,而硅圆直径也是越来越大,人工操作投影机或者是硅片运动来转移到下一个空白的地方刻电路,已经太复杂了,就必须得自动对准,光刻,转移,再光刻,一切都是自动化的。

后世不管光刻机怎么发展,除了最先进的几纳米工艺需要的极紫外光刻机之外,其他的大部分光刻机,用的都是这个原理。

“工作台的行程160毫米X160毫米,可以加工四英寸到六英寸的芯片,光刻芯片的最大面积是10毫米X10毫米,实际有效分

…。。
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